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产品描述
参数
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃，最大可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
产品特点
光洁真空腔室：采用直径210mm石英腔室，易清洁和放入样品；
旋转样品台：可获得更均匀的薄膜样品；
钨丝加热：采用特制钨丝加热器，最高温度可达1500℃；
真空：内置分子泵机组，可获取更高真空；
自动/手动模式：控温模式可选，手动加程序控温可随意选择。
技术参数
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单蒸发皿程控镀膜仪
应用领域
产品特点
参数
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃，最大可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
产品特点
光洁真空腔室：采用直径210mm石英腔室，易清洁和放入样品；
旋转样品台：可获得更均匀的薄膜样品；
钨丝加热：采用特制钨丝加热器，最高温度可达1500℃；
真空：内置分子泵机组，可获取更高真空；
自动/手动模式：控温模式可选，手动加程序控温可随意选择。
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