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单蒸发皿程控镀膜仪

单蒸发皿程控镀膜仪

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应用领域
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产品描述
参数
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备,较常规产品,该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃,最大可蒸镀直径50mm薄膜样品,可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
 
产品特点
 
光洁真空腔室:采用直径210mm石英腔室,易清洁和放入样品;
旋转样品台:可获得更均匀的薄膜样品;
钨丝加热:采用特制钨丝加热器,最高温度可达1500℃;
真空:内置分子泵机组,可获取更高真空;
自动/手动模式:控温模式可选,手动加程序控温可随意选择。
 
技术参数
 
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单蒸发皿程控镀膜仪

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基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备,较常规产品,该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃,最大可蒸镀直径50mm薄膜样品,可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
 
产品特点
 
光洁真空腔室:采用直径210mm石英腔室,易清洁和放入样品;
旋转样品台:可获得更均匀的薄膜样品;
钨丝加热:采用特制钨丝加热器,最高温度可达1500℃;
真空:内置分子泵机组,可获取更高真空;
自动/手动模式:控温模式可选,手动加程序控温可随意选择。
 
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